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MXG1200--80 真空管式炉

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简单介绍

设备用途 本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。 应用领域 半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、准确铸造、金属热处理等行业领域。 技术参数 设备名称:1200度微型管式炉 

详细介绍

设备用途

本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。

 

应用领域

半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、准确铸造、金属热处理等行业领域。

 

技术参数

设备名称:1200度微型管式炉

设备型号:MXG1200-80

炉管材质:石英管

炉管尺寸:外径80*内径74*长度1000*壁厚3mm

加热区尺寸:440

恒温区尺寸:200

较高温度:1200度(1小时)

工作温度:≤1100度(连续)

工作电源:单相 220V 50/60Hz 3Kw

 

加温

加热元件:电阻丝,环形加热

升温速率:20℃/min

 

测温

测温元件:N型热电偶

 

控温

温控仪表:数显仪表,智能化30段PID可编程控制。

控温精度:±1℃,超温启动紧急信号

 

保温

保温材料:多晶氧化铝纤维材料,保温效果好,热能损耗少。

 

充气正压:≤ 0.02MPa

可通气体:惰性气体和还原性气体等。

 

法兰(炉管两端配有不锈钢密封CF法兰,包括准确针阀、指针式真空压力表、软管接头,若有特殊需求,可选配以下法兰)

1、聚四氟乙烯法兰,用于有腐蚀环境。

2、水冷法兰,用于更好防止密封圈老化。

3、KF法兰,用于更好真空实验需求。

 

真空(根本实际需要选配以下不同效果的真空泵或真空系统)

1、标准旋片式机械真空泵,直插接口,较限真空可达50Pa。

2、DZK10-1低真空系统,KF接口,较限真空可达1*10-1Pa。

3、GZK10-3高真空系统,KF接口,较限真空可达1*10-3Pa。

 

打开方式:向上开启式,为了保证使用安全,本设备设计有开启断电功能。

外形尺寸:宽*深*高mm

包装尺寸:

设备净重:Kg

包装毛量:

设备包箱:木箱+珍珠棉+防尘膜

发货物流:送货上门,不含卸货。

质  保  期:一年,相关耗材除外,如加热元件等易耗件

 

标准配件

坩埚钳1把、刚玉舟1只、炉钩1把、管堵2只、石英管1根、304法兰1套、密封圈4只、浮子流量计1只、耐高温手套1双、产品说明书1份、仪表说明书1份、保修证书1份。

 

可选配件

1、二三四路浮子或质子流量供气系统。

2、DZK10-1低真空系统或GZK10-3高真空系统。

3、300W或500W等离子射频电源。

4、可选配移动炉架,将管式炉放置在炉架上。

 

注意事项

1、为了不影响设备正常使用寿命,请不要过快升降温。

2、请不要往管内通入超过0.02MPa的气体压力。

3、本设备使用一段时间后,炉膛会出现微小裂纹,属于正常现象,不会影响使用,可向业务人员免费索取氧化铝涂层修补剂。

4、由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加准确安全。

5、当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态。

6、进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

7、石英管的长时间使用温度≤1100℃

8、对于只对样品加热的实验(不抽真空不通气体),不建议使用时关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀。若需要关闭气阀对样品加热,您必须时刻关注压力表的指数(气压会随温度升降而变化),若压力表指数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)。

 

友情提示

可按需定制非标管式炉,如更大管径,更长加热区及各种特殊要求

 

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