霍尔离子源 eH 200

KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理国外进口进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸较小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数：

• 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder
  
  KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域：
  溅镀和蒸发镀膜 PC
  辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
  表面改性, 激活 SM
  直接沉积 DD

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