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立式真空扩散炉

立式真空扩散炉

产品信息

产品详细

 

本设备主要应用于集成电路、分立器件、电力电子器件熔化焊接来进行的生产、扩散、烧结、以及热处理退火等工艺操作。

 

主要技术指标：
方式：立式、环壁加热，钟罩升降式，丝杠上下传送料，自动升降送料，真空室内配有工件支架
可处理硅片尺寸：28英寸
恒温区长度：400800mm
工作温度：4001250°度
控温精度： ± 1度
有效工作空间： ¢ 350高700mm；（此尺寸可根据工艺要求制作）
真空机组：采用2x8 机械泵+涡轮分子泵（或扩散泵）
真空度：较限真空5104。
工艺气体：N2H2ArO2(可根据工艺要求选配）；
压力：0.02&mdash0.2mpa
冷却水：压力0.2&mdash0.4MPa
电源电压：380V；总功率：22KW
功能特点：
全中文windows操作界面，可编辑参数，操作方便。
★可保存多条工艺曲线，每条曲线可设置多步。
★工艺曲线的自动运行控制功能。  
★自动运行中可暂停继续运行功能。
★工艺中可强制跳到下一个工艺步运行功能。  
★智能升降温斜率制功能。
★PID参数自整定功能。  
★系统故障的检验与启动紧急信号功能。 
★停电后断点继续运行功能。
★工艺气体的程序控制功能（电磁阀质量流量控制器）。
★可根据用户的特殊要求增减或开发相应的功能。

 

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