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高纯铜颗粒,片状,丝状,块状,粉末状,靶材

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  CNM生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

产品广泛应用于半导体和电子行业的基础材料,光学,航天原子能工业电子,光电子,太阳能电池,装饰合金添加剂等各类科学研究和工业生产领域

CNM高纯材料采用学精炼法,电解精炼法,电子书熔炼,区间熔炼,萃取精炼法,控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺,湿法提纯,化学提纯。材料:纯度高,性能稳定,延展性好,耐腐蚀性能优良,放射性元素含量低,强度高,具有良好的加工性能

 

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