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隔离霜真空均质乳化机

产品信息

产品详细

一、产品关键词:隔离霜真空均质乳化机,BB霜高速乳化机实验室2L真空乳化机,化妆品乳化机,化妆品混合搅拌设备

二、隔离霜真空乳化机简介:

目前在隔离霜研磨色浆一般采用三棍研磨机,效率非常低,研磨一个批次需次需要10几个小时,或者采用普通的胶体磨,效果也非常低,时间长,而采用目前的隔离霜专项使用胶体磨,缩短研磨色浆的时间,一般研磨一1-2次就达到要求。然后乳化。

三、产品特性:

真空乳化机,18000转速乳化机,高剪切乳化机,隔离霜均质乳化机,隔离霜研磨乳化机

四、真空乳化机设备特点:


☆ **、节能


传统设备需8小时的分散加工过程,XRS设备1小时左右完成,超细分散效果显著,能耗非常大降低;

☆ 高速、高品质

传统设备的搅拌转速每分钟几十转,带乳化功能的转速每分钟1500转以内,只完成宏观分散加工,超细分散能力较为有限XRS设备的转速每分钟10000~18000转之间,非常高线速度产生的剪切力,瞬间超细分散浆料中的粉体。 

本设备是专门针对化妆品及制药行业生产小批量高等产品,机经常生产多种产品而设计;是美容行业的机型,其特点为:下置均质机,可加大功率。到年度的物料特别有效。主锅盖能自由升降,能完全清洗锅体,可倾式出料,程度保证出料,减少浪费,是中小型企业选择。适应于大容积生产的产品。

性能及特点:
复合刮板搅拌桨,适合各种复杂配方,达到优化能效;
◆聚四氟乙烯刮板,随时迎合搅拌槽之形体,刮净锅壁粘料;

◆均质机安装在锅底部,可加大电动机功率,更完全,更有力。在少量生产时,亦可充分发挥均质效果;

◆力度强平衡式等规曲线的转子配以相应结构的定子,实现流体高能剪切、研磨、离心、从而保证膏体细腻、光滑;锅体及管道表面镜面抛光300EMSH(卫生级),符合日化及GMP规范。

、隔离霜真空均质乳化机优点
机组采用上部同轴三重型搅拌器,液压升降开盖,快速均质搅拌器转速:0—3500r/min(变频调速)、慢速刮壁搅拌器转速:0—63r/min(变频调速)、均质器采用高剪切涡流式乳化搅拌机,慢速刮壁搅拌自动紧贴锅底及锅壁。采用真空吸料,特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。整个工序在真空条件下进行,防止物料在高速搅拌后产生气泡,能达到卫生无菌要求。本系统配有CIP清洗系统、容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造、内表面镜面抛光300EMSH(卫生级)为了确保控制部分的稳定、真空泵采用德国纳西姆(原西门子)公司产品、按钮采用日本富士公司产品、变频器采用日本松下电工、电器控制部分采用西门子公司产品。本机组完全符合GMP要求制造,是目前国内先进、理想的膏、霜生产设备。

隔离霜乳化机的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

XRS2000乳化机系列是专门隔离霜胶体磨特别是那些需要很好乳化和分散效果的生产。XRSS2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求.

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XRS2000/4

300-1000

18000

44

2.2

DN25

DN15

XRS2000/5

1000-1500

10500

44

7.5

DN40

DN32

XRS2000/10

3000

7300

44

15

DN50

DN50

XRS2000/20

8000

4900

44

37

DN80

DN65

XRS2000/30

20000

2850

44

55

DN150

DN125

XRS2000/50

40000

2000

44

160

DN200

DN150


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