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晶淼湿法刻蚀设备

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浅谈RCA湿法清洗  

1.SPM3#液去污及部分金属

2.APM1#液去表面颗粒及金属杂质

3.HPM2#液去金属粒子

4.DHF去氧化层和金属粒子

5.去离子水冲洗

订制酸碱洗设备请联系:苏州晶淼半导体设备有限公司

苏州晶淼半导体设备有限公司提供RCA清洗机、金属腐蚀清洗机、二氧化硅腐蚀机、多晶腐蚀清洗机、铝腐蚀机、去胶清洗机、酸/碱腐蚀机、无机腐蚀机、清洗机、显影清洗机、石英管清洗机、高温腐蚀清洗机、单片清洗机、自动片盒清洗机、硅片显影台、LED芯片清洗机、湿法刻蚀设备、超声波清洗机

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