伯东企业（上海）有限公司
主营：单双级旋片泵,干泵,罗茨泵,涡轮分子泵,真空测量,检漏仪,cti,低温
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所在地:
上海 上海
产品价格:
面议/个(大量采购价格面议)
最小起订:
1
发布时间:
2023-12-13
有效期至:
2024-06-13
产品详细
因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。
KRI 考夫曼离子源 KDC 10
上海伯东代理国外进口进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列较小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数
|
型号 |
KDC 10 |
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供电 |
DC magnetic confinement |
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- 阴极灯丝 |
1 |
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- 阳极电压 |
0-100V DC |
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- 栅极直径 |
1cm |
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中和器 |
灯丝 |
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电源控制 |
KSC 1202 |
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配置 |
- |
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- 阴极中和器 |
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 |
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- 架构 |
移动或快速法兰 |
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- 高度 |
4.5 |
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- 直径 |
1.52 |
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- 离子束 |
集中 |
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-加工材料 |
金属 |
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-工艺气体 |
惰性 |
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-安装距离 |
2-12” |
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- 自动控制 |
控制4种气体 |
KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
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