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氮化硼(BN)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

产品信息

产品详细

氮化硼(BN)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

氮化硼是由氮原子和硼原子所构成的晶体化学组成为43.6%的硼和56.4%的氮,具有四种不同的变体:六方氮化硼HBN)、菱方氮化硼(RBN)、立方氮化硼(CBN)和纤锌矿氮化硼(WBN)。 其立方结晶的变体被认为是已知的较硬的物质。(其维氏硬度达到108 GPa,而合成钻石的维氏硬度为100 GPa。

中文名

氮化硼

熔点

3000ºC

化学式

BN

沸点

未确定

外观

白色固体

密度

2.25 g/cm

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

 

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