供应电镀/印染用超纯水设备

供应四会、佛山电镀/印染用超纯水设备

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电镀、pcb板用超纯水工程的工艺流程:
    
1.新工艺一:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→准确过滤器→中间水箱→ro前水泵→准确过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→混床→终端准确过滤→设备用水（水质可以达到16mω.cm以上即0.06
μs/ ㎝以下,25 ℃）
2.新工艺二:    
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→准确过滤器→中间水箱→ro前水泵→准确过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→普通混床→抛光混床→终端准确过滤→设备用水（水质可以达到18mω.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）
3.新工艺三:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→准确过滤器→中间水箱→ro前水泵→准确过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→edi电去离子主机→终端准确过滤→uv紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到16mω.cm以上即0.062μs/ ㎝以下,25 ℃）
4.新工艺四:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→准确过滤器→中间水箱→ro前水泵→准确过滤器→ro高压泵→ro反渗透系统→ro水箱→ro水增压泵→edi电去离子主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端准确过滤→uv紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18mω.cm以上即0.055μs/ ㎝以下,25 ℃）
5.新工艺五:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→准确过滤器→中间水箱→一级ro高压泵→一级ro反渗透系统→ro水箱→二级ro高压泵→二级ro水箱→增压泵→edi(cedi)电去离子水主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端准确过滤→uv紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18mω.cm以上即0.055μs/ ㎝以下,25 ℃)
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