硬质氧化设备

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名称：硬质阳较氧化设备

类别：硬质氧化设备

硬质阳较氧化设备技术介绍：氧化膜具有良好的耐磨性、耐侵蚀、耐腐蚀性，根据应用要求不同，膜层厚度可在0.001-0.115英寸（25-125微米）之间或以上，而传统工艺的膜层厚度一般为0.0001-0.0010英寸（2.5-25微米）。对重量轻且有很高的耐磨、耐腐蚀、绝缘的产品需求不断增长，使得该种表面处理工艺受到市场欢迎。硬质氧化膜也被用于充当特定材料的连接件，从而减少摩擦系数或形成良好的释放性能。在绝大多数铝合金材料上都可获得超厚紧密的膜层。但是对于合金材料的选择和工艺温度都应仔细考虑。 现已发展出多种硬质阳较氧化工艺是用于各种不同应用。低压硬质阳较氧化工艺就是使用多功能电源系统在交流电流上叠加直流电流。此种工艺科在较低的电压下（12-18V）形成高中质量的硬质氧化膜。此外，含铜量很高的合金例如2011可在较短时间内进行阳较氧化而不出现“烧灼”现象，经过T6特别淬火处理的6061合金的氧化膜厚度可达6-7密耳，而直流高压工艺在此类合金上形成的膜层厚度不超过2.5-3密耳。含铜量更高的2024合金在低压工艺中也可形成较厚达6密耳的氧化膜。

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