主营:管式炉,箱式炉,CVD系统,PECVD系统,升华仪
所在地:
安徽 合肥
产品价格:
1元/mm(大量采购价格面议)
最小起订:
1
发布时间:
2023-09-12
有效期至:
2023-10-12
产品详细
设备特点:
1、广泛用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境;
2、该设备技术成熟、质量可靠,温场均匀,结构合理;
3、可选用液晶屏触摸界面,详细的界面操作提示,使得设备的操作异常简单、方便;
4、设备的各项技术参数,温度曲线更是一目了然,使得整个实验的运行状态尽在您的掌控之中;
5、根据管径不同,法兰分为卡箍和折页两种密封方式,安装拆卸简便快捷。
该设备广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域
技术参数:
1、额定功率:4KW
2、额定电压:AC 220V, 50/60Hz
3、较高温度:1700℃(1 hour)
4、持续工作温度:≤1600℃
5、推荐升温速率:1400℃以下≤10℃/min
1400℃~1600℃≤5℃/min
6、炉管尺寸:刚玉管Φ60*750mm
7、加热区长度:200mm
8、恒温区长度:100mm
9、控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能30段可编程控制,具有超温和断偶启动紧急信号功能
10、加热元件:硅钼棒
11、标准配置 刚玉管1根,氧化铝管堵4只,B型热电偶1只,不锈钢密封法兰1套,硅胶密封圈2套,高温手套1副,坩埚钩1支
12、炉子尺寸:510*440*650mm
净重:100KG