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厂家供应井式气相沉积炉

产品信息

产品详细

产品用途:

    CNT生产的CVD(真空化学气相沉积炉)是一种用于在基片上生成高质量TiCSiCSiO2Si3N4 专项使用设备。淀积温度能够较高 (1001800可调 ,它已成为机械制造工业、冶金工业、光学工业、半导体工业等领域微电子和光电子领域科研和生产不可缺少的设备
    产品结构:

CNT公司CVD设备主要由全真空专项使用不锈钢腔体,分子泵高真空系统,电源,生长机体载体及温控系统,单独排气和生长压力调节系统,冷却循环水辅助设备等组成。整机结构紧凑、操作方便、抽真空速度快。此设备控制系统采用逻辑按钮手动控制与工控机自控控制可选。实现真空抽气和镀膜工艺整体化功能。此设备可用于制作SiO2Si3N4、非晶SiH、多晶SiSiCWTiSiGaAsGaSb等介电、半导体及金属膜等。

参数名称

型                 号

CVD418

CVD818

CVD1218

CVD1618

CVD2018

额定功率

KW

 21

30

45

60

75

额定电压

V

380

380

380

380

380

较高温度

1800

1800

1800

1800

1800

工作温度

&le1700

&le1700

&le1700

&le1700

&le1700

真空度

 

6.67pa

6.67pa

6.67pa

6.67pa

6.67pa

基片台尺寸

直径

4英寸

8英寸

12英寸

16英寸

20英寸

基片台转速

 

020RPM

020RPM

020RPM

020RPM

020RPM

保温材料

V

石墨

石墨

石墨

石墨

石墨

加热方式

 

 石墨 

石墨 

石墨 

石墨 

石墨 

升温速率

℃min

&le25

&le25

&le25

&le25

&le25

控温精度

±1

±1

±1

±1

±1

标配

  1、 三路质量流量计 ,氮气、氢气、甲烷、氩气                                   

 2、气路启动紧急信号系统(氢气和甲烷)、超温启动紧急信号、缺水启动紧急信号

选配

1、尾气处理设备

2、气瓶及减压阀

 

3、冷却系统

 

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  • 西尼特(北京)科技有限公司

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    丁经理 (联系时请告诉我是"铝道网看到的 信息,会有优惠哦!谢谢!)

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