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圆盘式平面自动抛光机平面研磨机

产品信息

产品详细

结构特点

1   抛光盘、抛光头的驱动电机采用先进的变频调速可实现缓启动、缓停车或定点停车;

2   抛光盘采用交叉滚子轴承支撑,具有刚性稳定,可靠高转速下仍能确保准确

3   抛光液从抛光两侧由抛光液泵循环加注,完全满足抛光的工艺要求;IMG_1386_meitu_9.jpg

4   压力采用气动三段加压(负压、自重、正压)

5   采用特殊进口的气缸实现动加压

6   抛光盘由减速电机驱动,其运行速度通过操作面板上的旋扭进行无级调节;

7   抛光的摇动采用平行滑动装置,刚性高,稳定性好,压力均匀。摇动速度可通过操作面板上的旋扭进行无级调节

 抛光的升降、翻转采用气驱动,保证了运转的平稳性和操作的安全性;

9   控制系统采用PLC控制,可根据用户要求设定运行程序,实现动态接触启动、停车

10    由于采用了日本EVATECH公司的独特设计,该机器工作时可实现效率高低耗,且故障发生少

主要技术参数IMG_1393_meitu_16.jpg

1   抛光盘直径:              Φ1200mm        10抛光盘电机:Y132S-4  11KW  1500rpm

2   抛光头直径:              Φ950mm        11摇动电机: YEJ802-4  1.5KW  1500rpm

3   抛光头移动幅度:          ±350m m          12抛光液泵: AB200  450W  200L/min

4   抛光盘相对抛光头的偏心量:50300mm        13搅拌电机: 5IK90GU 100rpm

5   抛光盘转速:              2050rpm         14电源(三相五线制):AC380

6   抛光头摇动速度:          0100mm/s       15、气源:0.5-0.65Mpa  1000L/min

7   抛光头升降行程:          185mm          16、外形尺寸:3120X 2050X2319

8   抛光头翻转角度:          77.5°             17、质量:约5000Kg

9   抛光工件的厚度:          0.31.1mm

 

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