主营:管式炉,箱式炉,真空炉,气氛炉,高温炉,升降炉
所在地:
江苏 苏州
产品价格:
面议/台(大量采购价格面议)
最小起订:
1
发布时间:
2019-05-31
有效期至:
2019-06-30
产品详细
产品简介:此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置,可准确的控制反应腔体内部的气体压力,带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用,工艺重复性好,对于石墨烯生长工艺非常合适,也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。
主要功能和特点:
1、 利用辉光放电产生等离子体电子激活气相;
2、 提高了气相反应的沉积速率、成膜质量;
3、 可通过调整射频电源频率来控制沉积速率;
4、 能广泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。
本公司可定制各种型号各种功能的炉
¥99999 元